安泰科技高純稀有金屬靶材項目獲國家補助
安泰科技擬投資建設的“大尺寸高純稀有金屬靶材項目”被列入國家發改委、財政部、工信部稀土稀有金屬新材料研發和產業化專項，并獲得4000萬元的國家戰略性新興產業發展專項補助資金。據了解，作為國內金屬新材料領軍企業之一的安泰科技，金屬靶材是公司“十二五”戰略規劃期間大力發展的產業，“大尺寸高純稀有金屬靶材項目”將主要采用先進的熱等靜壓、真空熱壓、超大尺寸靶材燒結等核心技術，實現大尺寸高純Mo靶和WTi靶的產業化。公司方面表示，國家專項補助資金將有助于安泰科技在該領域實現更大發展。
據介紹，安泰科技此次擬投資的大尺寸高純稀有金屬靶材項目，初步計劃總投資1.63億元，項目建設期為24個月，主要依托公司在難熔金屬材料的技術積淀，將現有產品規模化，圍繞大尺寸高純鉬靶和高純度鎢鈦靶這兩類高端稀有金屬靶材進行產業化。
大尺寸高純稀有金屬靶材目前應用廣泛，市場前景非常廣闊。據悉，近年來，由于便攜式個人計算機、電視機、手機等對平板顯示器件的巨大需求，作為平板顯示產業主流技術的薄膜晶體管液晶平板顯示器(TFT-LCD)技術得到了迅猛發展。全球TFT-LCD生產廠家主要集中在中國內地、臺灣、韓國和日本等亞洲地區，占有全球90%的顯示器市場份額。
行業分析機構預測，至2015年將有13條8.5代的液晶生產線出現在中國內地，將有1500億元的投資進入中國液晶制造業。鉬靶材作為制備平面顯示金屬電極用材料，市場需求大，全球市場每年約為10億元。此外，電子芯片的封裝，大多采用COF封裝技術，需要使用高純鎢鈦合金靶材進行濺射鍍膜，全世界僅LCD用的控制芯片使用靶材，每年市場銷售超過5億元。濺射薄膜太陽能電池的制備也需要高純鎢鈦靶、大尺寸高純鉬靶，僅2009年1GW的薄膜太陽能電池就需求濺射靶材超過20億元。
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