【中國鉬業新聞網】
據外媒報道,美國北卡州立大學的研究人員表示,他們開發出了制造高質量原子量級半導體薄膜(薄膜厚度僅為單原子直徑)的新技術,新技術能將現有半導體技術的規?s小到原子量級,包括激光器、發光二極管和計算機芯片等;而其所用材料硫化鉬成為關鍵。
據悉,研究人員研究的材料是硫化鉬,它是一種價格低廉的半導體材料,電子和光學特性與目前半導體工業界所用的材料相似。然而,硫化鉬又與其他半導體材料有所不同,因為它能以單原子分層生長形成單層薄膜,同時薄膜又不會失去原有的材料特性。
眾所周知,石墨烯在A股市場上不時掀起炒作狂潮,而石墨烯自身的發展,也早就不局限于概念的炒作。如今,分析人士表示,單層輝鉬材料有望取代現有的矽和熱門石墨烯,成為下一代半導體材料,其發展潛力不容小覷。
此次氧化硫研究獲得突破后,半導體薄膜在納米電子器件中將更受歡迎;分析人士指出,A股市場中沾“鉬”概念,如洛陽鉬業、新華龍及金鉬股份將有望受到資金的青睞。
鉬制品生產商、供應商:中鎢在線科技有限公司
產品詳情查閱:http://www.molybdenum.com.cn訂購電話:0592-5129696 傳真:0592-5129797電子郵件: sales@chinatungsten.com鎢圖片網站:http://image.chinatungsten.com鎢視頻網站:http://v.chinatungsten.com鎢新聞、價格手機網站,3G版:http://3g.chinatungsten.com