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雜質(zhì)元素在鎢還原過程中的行為不僅取決于雜質(zhì)存在的形態(tài),而且也取決于還原工藝條件。鎢還原制粉過程中的雜質(zhì)大致可分為:
(l)能全部揮發(fā)除去的雜質(zhì),典型的有Z、S、Cl、F等;
(2)能部分揮發(fā)除去的雜質(zhì),典型的有Na、K、Li、B、P等;
(3)可全部保存下來的雜質(zhì),如Sn、Ni、Cu、Mg、Ba等;
(4)在還原過程中可能增加的雜質(zhì),如Fe、Ni、C、Na和C1等;
(5)聚集在晶界上使產(chǎn)品的強度和塑性降低的氣體雜質(zhì),如O2、H2、N2等。
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