六氟化鎢（Tungsten Hexafluoride，WF6）是由過渡金屬鎢元素和活潑非金屬氟元素組成的一種無色氣體，是用于微電子學生產過程中鎢的化學蒸氣沉積的一種氣源，具有較大的密度、較強的腐蝕性和毒性等特點，主要應用于半導體工業的化學氣相沉積工藝中，以沉積鎢金屬。然而，當前的生產技術卻很難生產出高純度WF6。
高純六氟化鎢圖片
為了制備出超高純度（99.9999%）且制造費用較低的六氟化鎢產品，專利號為CN1281823A的研究者提出一種新的生產方法，具體步驟如下：
先將一定量的粗六氟化鎢引入一個蒸發過程，用以分離成為一定量的含有揮發性雜質的WF6和一定量的非揮發性的金屬雜質；然后，將該一定量的含有揮發性雜質的WF6通過一個氣相吸附過程，用以分離成為一定量的半粗WF6產品和一定量的作為被吸附殘余物的氟化氫；最后，將該一定量的半粗WF6送入一個UHP氣體鼓泡系統，用以分離為非揮發的高純六氟化鎢產品。
高純六氟化鎢圖片
值得一提的是，粗六氟化鎢一般是純度為99%的WF6，且含有大于1ppmv的氟化氫。另外，UHP氣體鼓泡系統在溫度高于3℃，壓力大于0.5atm下操作，采用脈沖吹掃程序。
該生產技術的純化是基于蒸發、氣相活性吸附系統和鼓泡系統的結合。蒸發是為了從粗六氟化鎢中除去非揮發性殘余物。采用的氣相反應性吸附床是為了從WF6中除去氟化氫和氟化硅雜質。采用的鼓泡系統是為了從產品中除去揮發性雜質。
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