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作者:中鎢在線 文章來源:網絡轉載 更新時間:2016-1-12 15:56:55 |
銅互連圖形的解決方法
去年某材料公司,推出全新的Applied Endura® CirrusTM HTX物理氣相沉積(PVD)*系統,采用突破性硬掩模技術,可支持10納米及更小的銅互連圖形生成。芯片尺寸的不斷縮小需要更先進的硬掩模技術,從而保證緊湊、微型互連結構的完整性。隨著這一全新技術的推出,公司成功延續氮化鈦(TiN*,半導體行業的首選硬掩膜材料)金屬硬掩模,滿足未來先進微芯片銅互連圖形生成的需求。
解決先進互連圖形生成的挑戰是金屬硬掩模精密工程領域的關鍵。
當今的先進微芯片技術能夠將20千米長的銅線裝入100平方毫米的狹小空間內,將其堆疊成10層,在層與層之間有多達100億個通孔或垂直互連。金屬硬掩模的作用是保持這些軟ULK *電介質中的銅線和通孔的圖形完整性。然而,隨著芯片尺寸的不斷縮小,傳統TiN硬掩膜層的壓縮應力可能會導致ULK薄膜中的狹窄銅線圖案變形或倒塌。以Cirrus HTX沉積的TiN硬掩膜則提供了獨特的應力調節功能,這一特殊性能加上良好蝕刻選擇性,實現優異的的關鍵尺寸(CD) *線寬控制及通孔對準,從而提高產品良率。
TiN硬掩模技術的突破主要歸功于硅片生產中的精密材料工程,使其制造出高密度、低應力的薄膜。在久經市場考驗的Endura平臺上,結合了兼具膜厚度均勻性和低缺陷率,Cirrus HTX系統能夠滿足多互聯層圖形生成的大規模量產需求帶來的嚴峻挑戰。
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上一個文章: 3D打印銅柱技術 |
文章錄入:xiaoying 責任編輯:xiaoying |
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