オフィスビルの斷熱膜を製造するためのナノ三酸化タングステンはエレクトロクロミック材料である。専門家によると、三酸化タングステンナノ粒子をエレクトロクロミック素子に用いる可能性を探るためには、三酸化タングステン薄膜の光學性能を初歩的に徹底的に研究することが重要な一歩である。
詳細については、次のサイトを參照してください。
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
上記基準に基づいて、専門家たちはWO 3薄膜の構(gòu)造、表面形態(tài)、光學特性に対するアニール溫度の影響を研究した。彼らは電子ビーム蒸発技術(shù)の物理蒸著方法を用いて、1×10 ^-5 mbarの圧力でWO 3薄膜を製造した。専門家たちはX線回折分析を通じて薄膜の単相特性、単斜晶構(gòu)造と組織特性を確認した。結(jié)果により、表面形態(tài)に針狀結(jié)晶粒が観察された。評価した微結(jié)晶サイズはナノメートルの範囲內(nèi)であった。専門家らは、光學研究から観察された吸収端のより高波長領(lǐng)域への移動は、薄膜上の著色効果による可能性があると説明している。
