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WO3ナノプレートアレイフィルム

WO3ナノプレートアレイ膜は近年の光電子材料分野の研究ホットスポットである。そのため、高度に秩序化されたWO3ナノ構(gòu)造アレイ膜の製造にも注目されている。報告によると、秩序ナノアレイ膜を製造するための一般的な方法は、水熱法、テンプレート法、化學(xué)蒸著法、熱蒸発法などを含む。

WO3ナノプレートアレイフィルム

詳細(xì)については、次のサイトを參照してください。

http://www.tungsten-oxide.com/japanese/index.html

WO3ナノプレートアレイフィルム

その中で、水熱法は反応條件が溫和で、設(shè)備が簡単で、コストが低く、大面積フィルムの製造が容易であるという特徴があり、そのため多くの研究者の愛顧を受けた。専門家たちはFTO導(dǎo)電性ガラスを基板とし、水熱合成と焼成により、FTO基板上に直接WO3ナノシートアレイ膜を合成し、光電化學(xué)電池と染料増感太陽電池への応用を研究した。このうち、WO3シード層をプレキャストする必要はない。また、専門家たちはWO3薄膜の形態(tài)と構(gòu)造に対する異なる水熱合成條件の影響を研究した。結(jié)果は、C2042?がWO3ナノプレートアレイの形成に重要な構(gòu)造ガイド作用を持つことを示した。

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