三酸化タングステンは特殊な光學特性を有する半導體材料であるため、キッチン斷熱膜などの新しい斷熱材料の製造によく用いられる。斷熱領域における酸化タングステンナノ材料の応用に伴い、ますます多くの専門家や學者が注目している。彼らは酸化タングステンに注目し始めた。例えば、どのように酸化タングステンを製造するのか。以下は種子タングステン酸ナトリウム溶液の処理による三酸化タングステンの製造方法である。
詳細については、次のサイトを參照してください。
http://www.tungsten-oxide.com/japanese/index.html
三酸化タングステンの製造方法
第一歩：45%タングステン酸ナトリウム水溶液を調製し、塩酸で溶液pHを4.9に調整し、高圧反応釜で12時間水熱反応し、濾過、濃縮し、結晶化して得られた沈殿物を得て、種結晶を得る。
第二段階：種結晶を45%のタングステン酸ナトリウム溶液に添加して、タングステン酸ナトリウム溶液と種結晶の混合物を得て、溶液中の種結晶とタングステン酸ナトリウムの質量比は1：4.5である。
第三段階：上記混合物をステンレス鋼高圧反応釜に入れ、200°Cの激しい攪拌條件下で12時間水熱反応を行った。その後、攪拌を停止する。室溫まで冷卻した後、反応生成物スラリーを得た。
第四段階：反応生成物スラリーを濾過洗浄し、濾過ケーキと母液を得、濾過ケーキを350°Cで焼成し、三酸化タングステンを得た。
