斷熱ガラスを組み立てるための酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜は、マグネトロンスパッタリング法により製造することができる。マグネトロンスパッタリングによる酸化タングステン薄膜の製造方法を知っていますか。
詳細については、
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
マグネトロンスパッタリングによる酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜の製造方法
Ar+O 2混合ガスまたはArガスを作動ガスとして使用し、酸化タングステンまたは金屬タングステンをターゲットとして使用し、ターゲットに高電圧を印加することにより異常グロー放電を発生させ、帯電したAr+イオンをターゲットに衝突させ、ターゲット表面上の原子とクラスターをイオン形態で解離して基板表面に沈積させ、酸化タングステンエレクトロクロミック膜を形成する。
専門家によると、マグネトロンスパッタリングは一般的なめっき方法であり、成膜速度が速く、粒徑が均一で、緻密性がよく、薄膜とFTO導電性ガラスの結合が良好であるなどの利點がある。
