マグネトロンスパッタリング法とスプレー法を組み合わせて、斷熱ガラス用のモリブデン添加酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜を製造することができる。しかし、マグネトロンスパッタリングとスプレーを組み合わせて、より良好なエレクトロクロミック性能を持つモリブデン添加酸化タングステン薄膜を製造できる理由を知っていますか。
詳細については、
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
専門家によると、マグネトロンスパッタリングは一般的なめっき方法として、多くの利點があるという。例えば、マグネトロンスパッタリング中に酸素アルゴン比、電力、スパッタリング時間及び基板溫度を調整することにより、良好な化學量論比を有するエレクトロクロミック薄膜を製造することができる。また、薄膜の形成速度が速い。得られたフィルムは粒徑が均一で、緻密性が良い。また、薄膜とFTO導電性ガラスとの結合性は良好であった。要するに、噴霧法は非常に効率的な生産性を持っており、熱処理裝置と噴霧裝置だけが必要であるため、安価であり、より重要なのは、大面積のエレクトロクロミック裝置の製造に使用できることである。
