斷熱ガラス用WO3エレクトロクロミック薄膜は電気泳動堆積により作製することができる。専門家によると、得られた酸化タングステン薄膜は極めて高い応答速度と大きな著色効率を持っている。しかもコストが低い。報告によると、多くの専門家がこの方法を用いて三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜を研究した。
詳細については、
http://www.tungsten-powder.com/japanese/tungsten-oxide.html
例えば、一部の専門家は三酸化タングステン薄膜の表面形態とエレクトロクロミック特性に対するゾル靜置時間の影響を研究した。配置された前駆體を用いて48時間靜置して電著により製造されたWO3薄膜は、ゾル配置直後に電著法により製造された薄膜よりも高いLiイオン拡散係數を有する。前者の表面はブドウ狀構造を呈している。もう1つの例を挙げると、ある専門家は電気泳動によってTi基板の表面に堆積してWO3膜を作製した。一部の専門家は電気泳動堆積法により各種金屬酸化物を含むWO3薄膜の製造に成功し、そのエレクトロクロミック性能を純WO3薄膜と比較した。一方、電気泳動堆積法により作製した酸化タングステン斷熱膜は基材への付著力が弱いため、エレクトロクロミック性能を失いやすいことに注意が必要である。