スマート窓用三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜はマグネトロンスパッタリング法により製造することができる。マグネトロンスパッタリング法は多磁場薄膜の製造方法であり、実験室での研究が容易で、大規模な生産にも適していることを知っているかもしれません。しかし、マグネトロンスパッタリングによるWO3エレクトロクロミック薄膜の製造方法を知っていますか。
詳細については、
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
マグネトロンスパッタリングによるWO3エレクトロクロミック薄膜の製造方法の基本的な方法は以下の通りである：WまたはWO3をターゲットとして使用し、作動ガスはArまたはArとO2の混合物である。高圧を印加することにより、ターゲット表面に異常グロー放電が発生する。プラズマは磁場によって制限され、Ar+イオンが500eVのエネルギーでターゲットに衝突し、原子とクラスターがイオンの形でターゲット表面から分離され、それによって基板表面に均一なWO3膜が堆積される。
