WO3ナノディスクは高性能エレクトロクロミック薄膜の製造に使用することができる。具體的には、FTO（SnO2：F）導電性ガラス上に水和WO3ナノディスクエレクトロクロミック膜をシード支援水熱法で作製する専門家がいる。
詳細については、次のページを參照してください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
専門家によると、伝統的な種結晶補助水熱法は反応時間が長く、反応溫度が高いなどの問題があり、種結晶補助水熱法はこれらの問題を解決した。専門家たちはまた、種結晶層及び尿素が水熱成長において重要な役割を果たすことを発見した。アモルファス層がない場合、製造されたフィルムはナノロッドからなる花狀構造である、一方、FTO表面にゾル?ゲル法を用いて予めシード層を作製した後に水熱反応を行うと、ナノディスクが相互に交互に配列して形成された多孔質構造三酸化タングステン薄膜を得ることができる。尿素の存在は、種結晶補助水熱法により製造された水和三酸化タングステン薄膜により強いイオン貯蔵能力を持たせることができるため、より大きな光変調範囲、より速い応答速度、より高い著色効率を示すことができる。
