ドープされたＷＯ 3フィルムは電子ビーム蒸著によって調製することができる。 その中で、電子ビーム蒸著法は蒸著コーティング法の一つであり、後者は物理蒸著法の一つに屬する。 一部の専門家は、電子ビーム蒸著によってＡｌ ２ Ｏ ３基板上にＮＷＣＮＴドープＷＯ ３フィルムを調製するために、原料としてＷＯ ３とＣＮＴの混合粉末を使用した。
詳しくは、次のURLをご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
実験室では物理蒸著法が広く使用されている成膜方法であると専門家らは言うが、他の方法と比較して、合成フィルムはより速いスピード、より高いフィルム純度、より良い表面均一性、そしていくつかの高融點反応を有する。 この材料はドープされたＷＯ 3フィルムの製造に使用されるが、反応裝置は比較的高価であり、従ってフィルム材料の大規模製造には適さない。 専門家達はまた、電子ビーム蒸著の原理はターゲットの表面に衝撃を與えるために高エネルギー電子ビームを使用することであり、それにより材料の表面は非常に高い溫度を作り出す。
